浸漬提拉鍍膜機(jī)/提拉鍍膜機(jī)/鍍膜機(jī) 型號：H09383

一. 產(chǎn)品應(yīng)用
浸漬提拉鍍膜機(jī)本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預(yù)先設(shè)置的浸漬時(shí)間、提拉速度、提拉高度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成一層納米級的薄膜。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
采用溶膠-凝膠法鍍膜，隨著基片從溶膠中提拉出來，在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜"，隨著“濕凝膠膜"膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜"。“干凝膠膜"經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

二. 產(chǎn)品簡介
是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動(dòng)，可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

三.產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 采用自主設(shè)計(jì)的優(yōu)良的級精密傳動(dòng)裝置；
2. 關(guān)鍵零部件來自中國臺灣及日本進(jìn)口，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性；
3. 采用箱體式設(shè)計(jì)，鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內(nèi)，避免外界環(huán)境的干擾；前門及側(cè)面采用透明玻璃，便于觀察鍍膜過程；
4. 多達(dá)6個(gè)參數(shù)全自動(dòng)控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)；
5. 可全自動(dòng)運(yùn)行鍍膜，也可進(jìn)入手動(dòng)操作模式鍍膜；
6. 7英寸觸摸屏使控制更方便，歷史運(yùn)行記錄可方便查詢；
7. 高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，工作時(shí)液面無振動(dòng)，使成膜更均勻；

四. 技術(shù)參數(shù)
1. 提拉速度范圍：1～6000 μm/s，最小分辨率1μm/s；
2. 適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 300×300 mm，厚度 MAX 10mm。
3. 浸漬時(shí)間：1～3600 s，最小分辨率1s；
4. 鍍膜次數(shù)：1～50次，最少1次；
5. 每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，最小分辨率1s；
6. 電源：220V/50Hz

2.勻膠機(jī)旋涂儀/旋涂儀/勻膠機(jī) 型號：H09381

一. 產(chǎn)品應(yīng)用
H09381 型勻膠機(jī)（Spin Coater），是新一代旋轉(zhuǎn)涂膜設(shè)備，具有速度精度高，主動(dòng)式速度調(diào)控、勻膠過程多段程序控制等特點(diǎn)。主要用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)器件等領(lǐng)域的表面涂膜工藝，例如各類納米薄膜材料、光阻涂覆、生物功能涂層的制備。
二. 產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 機(jī)身外殼采用SUS304不銹鋼制作，防腐蝕、不生銹、易清潔。
2. 真空室采用316L耐腐蝕不銹鋼制作，防止長期使用過程中膠液的侵蝕。
3. 接膠盤為PP材料經(jīng)精加工制作而成，接儲脫離基片的膠液，避免進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部。耐腐蝕、可拆卸、易清洗。
4. 旋轉(zhuǎn)臺采用鋁材制作，表面經(jīng)過硬質(zhì)氧化處理，耐摩擦同時(shí)避免劃傷基片底部。防止膠液的腐蝕。
5. 勻膠過程全自動(dòng)分段程序控制。整個(gè)勻膠過程最多可分十段進(jìn)行，每段的加速時(shí)間、旋轉(zhuǎn)速度、勻膠時(shí)間均可精密控制、連續(xù)可調(diào)。
6. 4.3英寸液晶觸摸屏使控制更方便；運(yùn)行狀態(tài)及各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示，更直觀了解勻膠進(jìn)程；
7. 旋轉(zhuǎn)前增加預(yù)吸片步驟，“預(yù)吸片時(shí)間"最多為99s，確保基片牢固吸附于旋轉(zhuǎn)臺后再進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂膜。勻膠完成后增加解吸片步驟，“解吸片時(shí)間"最多為99s，確保安全停止后再切斷真空，釋放基片，防止涂膜后的基片滑落，對膜層造成損傷。
8. 采用精密穩(wěn)定的直流電機(jī)及驅(qū)動(dòng)器，旋轉(zhuǎn)速度采用主動(dòng)控制方式，區(qū)別于老舊的被動(dòng)測速控制方式，從而使旋轉(zhuǎn)速度更精確。
9. 標(biāo)配無油真空泵，低噪音。大吸力將基片緊緊吸附于旋轉(zhuǎn)臺，防止飛片。
三. 技術(shù)參數(shù)
1. 旋涂速度：400～8000 rpm
2. 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度：1rpm
3. 每段加速時(shí)間：1～99 s
4. 每段勻膠時(shí)間：1～99 s
5. 預(yù)吸片時(shí)間：1～99 s
6. 解吸片時(shí)間：1～99 s
7. 鍍膜尺寸：5-100mm
8. 真空泵抽氣速率：60L/min

3.微型真空泵  型號：H09379

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4.微型真空泵 型號：H09378

5.數(shù)字γ輻射儀 γ輻射儀 型號：H09377
H09377 數(shù)字γ輻射儀 為便攜式，操作方便、它適用于地質(zhì)鈾礦普查、同位素放射源檢測。也使用于如核電、醫(yī)院、實(shí)驗(yàn)室及廢舊鋼材等放射性同位素場合的檢測。

H09377 數(shù)字γ輻射儀

特 點(diǎn):
1 、重量輕、便攜式、操作方便、穩(wěn)定、功耗低
2 、量程寬、精度高、提供異常、顯示、溢出和電池失效四種聲響報(bào)警
3 、量程自動(dòng)轉(zhuǎn)換、讀數(shù)歸一為 ppmeU （等效鈾含量）

技術(shù)指標(biāo)：

1、探測器：NaI（TI）晶體35 cm3
2、能量閾：40kev
3、靈敏度：5cps/ppmeU
4、取樣時(shí)間：1秒、2秒、4秒、16秒、64秒
5、顯示：四位數(shù)字液晶顯示、溢出點(diǎn)可擴(kuò)大量程
6、精度：25－5000ppmeU ≤±5％
???? 5000－10000ppmeU ≤±10％
???? 10000－30000ppmeU≤±10（需死時(shí)間修正）
7、聲響閾：5－50ppmeU，連續(xù)可調(diào)。響應(yīng)時(shí)間小于0.5秒
8、工作溫度：－10℃－＋50 ℃
9、供電：兩節(jié)一號電池可連續(xù)工作40小時(shí)以上
10、外形尺寸和重量：725×76×236mm；1.7kg

以上參數(shù)資料與圖片相對應(yīng)